簡要描述:雙溝式氧化溝(PLC控制)實驗裝置實驗目的氧化溝是一種改良的活性污泥法,其曝氣池呈封閉的溝渠型,污水和活性污泥混合液在其中循環(huán)流動,因此被稱為氧化溝。本裝置是氧化溝的教學實驗設備。通過本實驗希望達到以下目的:
詳細介紹
品牌 | 育仰科教 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,文體,石油 |
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雙溝式氧化溝(PLC控制)實驗裝置
一.雙溝式氧化溝(PLC控制)實驗裝置實驗目的
氧化溝是一種改良的活性污泥法,其曝氣池呈封閉的溝渠型,污水和活性污泥混合液在其中循環(huán)流動,因此被稱為氧化溝。本裝置是氧化溝的教學實驗設備。通過本實驗希望達到以下目的:
1.掌握氧化溝的內(nèi)部構造;
2.了解氧化溝的水力特性,水力流動情況及工藝特點。
二.技術參數(shù)
1.處理水量:2~6L/h;
2.工作電源220V、安全保護:具有接地保護、漏電保護、過流保護;功率300W
3.電氣線路安裝要求:布置線槽,電源線、控制線等線材規(guī)范整理,具有絕緣、防弧、阻燃自熄等特點;
4.裝置外形尺寸:1200mm×600mm×1200mm。
三.主要配置
1.原水箱和清水箱各1個(白色12mm厚PP板),配銅質(zhì)放空閥;
2.提升泵1臺、流量計1個(量程2-20L/H)
3.進口亞克力材質(zhì)雙溝氧化溝1個(進口亞克力材質(zhì)、750*550*290mm)、水位調(diào)節(jié)器1套、導流板3套;
4.機械曝氣裝置3套、曝氣深度調(diào)節(jié)裝置3套、調(diào)速電機3套(轉速0~300rpm,無級調(diào)速)、可控硅調(diào)速器3臺;
5.豎流式沉淀池:進口亞克力,φ300*350mm;
6.顯示器:顯控SK-102BE液晶觸摸屏、PLC:SIEMENS CPU224、控制軟件1套、不銹鋼電控箱1只、漏電保護開關、電源電壓表和按鈕開關;
7.臺面(白色12mm厚PP板)、連接管道和閥門、彎頭;不銹鋼框架(配萬向輪及禁錮腳)等組成。
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